クリーン・テクノロジー株式会社
本社・1st Factory
■工場 1,425㎡(440坪)
2nd Factory
■工場 2,752㎡(850坪)
縦(東西)：75.0m
横(南北)：36.7m
高さ：6.6m
実働テスト可能
3rd Factory
(10G～, Film専用)
■工場 4,867㎡(1500坪）
縦(東西)：36.0m
横(南北)：135.2m
高さ：10.1m
利点： R to Rフィルムライン長125m迄実働テスト可能
3rd Factory 内部
長さ：135.2m
利点：R to Rフィルムライン長125m迄実働テスト可能
<フィルム業界>
事例紹介
大型シングル量産装置 片開型
大型タンデム量産装置 片開型
大型タンデム量産装置 片開型
大型タンデム量産装置 片開型
大型シングル量産装置 片開型
大型シングル量産装置 両開型
フィルム小型実験装置
小型片開型 W250mm 0.5m/炉×3炉
小型片開型 W250mm 1m/炉×2炉
小型片開型 W140mm 0.5m/炉×1炉
小型片開型 W250mm 1m/炉×2炉
小型片開型 W250mm 0.5m/炉×4炉
小型片開型 W250mm 1m/炉×2炉
小型片開型 W350mm 2m/炉×3炉
社内実験装置
対応フィルム 巾650mm /乾燥炉 3m × 5台
SEM-EDXライン分析
SEM-EDXマップ分析
ノズル吹出風速自動制御（特許申請済）
スロットダイ ※社内製作・短納期
<フラットパネルディスプレイ業界>
UV（紫外線洗浄）
IR（赤外線加熱乾燥）
HMDS-HP
HMDS噴霧均熱板加熱乾燥）
VD（減圧乾燥）
HP/CP（均熱板加熱乾燥/冷却）
PCP（均熱板精密温調冷却）
UV･O3-ASH（UV･O3アッシング）
時代の流れと共に求められる技術も変化します。
世界の動きを読み、柔軟な思考で
今後のさらなる発展を目指す技術職を募集しています。
